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ＣＰＣによる外国文献調査

コラム、調査、、、、、

外国文献の特許調査の必要性

拒絶理由通知で引用される文献は以前は殆どが国内の文献であったと思いますが、最近はＵＳ、ＷＯ、ＥＰ等の外国文献が引用されることも少なくないと思います。発明の内容によっては関連の深い文献が内国文献に偏っていることもありますが、内国文献と外国文献の両方に関連の深い文献が存在する場合や、関連の深い文献がむしろ外国文献に偏っている場合もあります。私が実際に担当した案件でも内国文献検索では有力な文献を全く見つけることができなかったのに、外国文献検索でＸ文献や有力なＹ文献が見つかったというケースが何件かありました。関連の深い文献が内国文献に偏っている発明については内国文献をサーチするだけでもよいかもしれませんが、内国文献と外国文献の両方に関連の深い文献が存在する場合や、関連の深い文献が外国文献に偏っている場合は調査精度の向上という点で外国文献のサーチも行うのが望ましいと言えます。

ＣＰＣ（共同特許分類）

ＣＰＣはＥＰＯ（欧州特許庁）とＵＳＰＴＯ（米国特許商標庁）が共通で使用する特許分類です。国際的な特許分類としてはＩＰＣがありますがＩＰＣは分類が粗いため日本の特許庁はＩＰＣを細分化したＦＩという分類を用いています。同様にＥＰＯは以前はＥＣＬＡという分類を、またＵＳＰＴＯはＵＳＣという分類を用いていましたが、２０１３年からＥＰＯとＵＳＰＴＯは共通でＣＰＣを使用しています。ＣＰＣで分類検索することによりＵＳ、ＷＯ、ＥＰ等の外国文献をサーチすることができます。また、中国や韓国の比較的新しい特許文献にもＣＰＣが付与されています。

ＣＰＣの調べ方

分類対照ツール

特許庁の分類対照ツールでは日本語のキーワードからＩＰＣ、ＦＩ、ＣＰＣを調べることができます。またＩＰＣ、ＦＩ、ＣＰＣのいずれかの分類を入力することで他の対応分類と並べて表示させることができ、ＩＰＣやＦＩから対応するＣＰＣを調べることができます。なおＣＰＣもＦＩもＩＰＣを細分化したものですが細分化の内容は異なります。したがってＦＩとＣＰＣを並べて表示させた場合、ＩＰＣよりも下位の階層の分類についてはＦＩとＣＰＣは隣に並んで表示されていても一般的に内容は同じではありません。上位の分類が共通であるものが便宜上並んで表示されているだけですので内容は分類名で確認する必要があります。

分類対照ツール

Espacenetの分類検索

Espacenetの分類検索（Cooperative Patent Classification）では英語のキーワードからＣＰＣを調べることができます。またＣＰＣ（分類）を入力するとその分類とともに前後の他のＣＰＣ（最上位の分類が共通であるもの）が表示されます。

Cooperative Patent Classification

関連がありそうな文献のＣＰＣを参照する

内国文献検索等で関連がありそうな文献が見つかり、その文献にＵＳ、ＷＯ、ＥＰ等のファミリーが存在する場合、通常ファミリー文献にはＣＰＣが付与されています。そのＣＰＣを上記の分類対照ツールやEspacenetのCooperative Patent Classificationに入力することでそのＣＰＣの分類名や前後の他のＣＰＣを確認できますので、それらの中から目的に合ったＣＰＣを見つけることができる場合があります。経験上、分類対照ツールやEspacenetのCooperative Patent ClassificationのページのみでＣＰＣを調べるよりも、関連がありそうな文献に付与されているＣＰＣを参照する方が適切なＣＰＣを見つけられる場合が多いように思います。なおファミリー文献や付与されているＣＰＣはEspaceneのSmertSearchやＪ－ＰｌａｔＰａｔのワン・ポータル・ドシエで照会できます。

SmertSearch

外国文献の検索サイト

ＣＰＣからＥＰ、ＵＳ、ＷＯ等の文献を検索できる無料のサイトとしては以下のようなものがあります。

J-PlatPatによる外国文献検索

Ｊ－ＰｌａｔＰａｔの特許・実用新案のメニューの中の特許・実用新案検索を選択し、選択入力タブでテキスト検索対象の英文及び外国文献を選択しますと、その下の検索項目でＣＰＣを選択できるようになります。その右のキーワードを入力する欄にＣＰＣを入力することでＣＰＣによる外国文献のサーチを行うことができます。なお、論理式入力のタブを利用される場合は、テキスト検索対象の英文及び外国文献を選択し、その下の論理式の欄にＣＰＣを入力し末尾に「/CP」を付記することでＣＰＣによるサーチを行うことができます。

J-PlatPat 特許・実用新案検索

Espacenetの高度の検索

Esapacenetの高度の検索（Advanced search）のページにはＣＰＣの入力欄があります。またキーワードを併用して検索することもできます。なお一番上のサーチ範囲のメニューで「full collection」を選択するとキーワードのサーチ範囲が発明の名称、要約に限定されてしまいますが、「EN（english） collection」を選択すれば全文検索できます。

Advanced Search

Google のAdvanced Patent Search

GoogleのAdvanced Patent SearchにもＣＰＣの入力欄があります。またキーワードを併用して検索することもできます。

Advanced Patent Search

USPTOのSearch for patents

USPTOのSearch for patentsはPatFT（特許公報）とAppFT（出願公開公報）を別々に検索するようになっています。どちらにもQuick SearchがありＣＰＣの入力欄があります。またキーワードを併用して検索することもできます。

Search for patents

J-PlatPatによる分類検索

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２つの検索メニュー

J-PlatPatの特許・実用新案のメニューには「２．特許・実用新案テキスト検索」、「３．特許・実用新案分類検索」の２つの検索メニューがあります。テキスト検索は分類検索に比べて検索キー（用語）を直感的に選択できますので「２．特許・実用新案テキスト検索」の方を利用される方が多いのではないかと思います。また「２．特許・実用新案テキスト検索」ではＦＩ、Ｆタームも入力できますので分類検索にも利用できそうですが分類検索については注意が必要です。

文献の蓄積範囲の違い

「２．特許・実用新案テキスト検索」ではテキストデータが存在する文献しかヒットしません。例えば公開特許公報については平成５年以降の文献しかヒットしません（画面右下の文献蓄積情報参照）。したがって分類（ＦＩ、Ｆターム）のみを入力して検索したとしてもテキストデータが存在しない文献は検索範囲から漏れてしまいます。実際にＦＩ、Ｆタームをいくつか入力して検索してみたところ、ＦＩについては平成５年以降の公開特許公報のみがヒットしました。またＦタームについてはなぜか発行日が２０００年以降の文献しかヒットしませんでした。

分類の階層の反映の有無

ＦＩ、Ｆタームには階層がありますが「２．特許・実用新案テキスト検索」ではＦＩ、Ｆタームの階層が反映されないようです。例えばテーマコード４Ｂ０５９（フライパン、フライヤー）のＦタームリストを見ますとＡＡ０２（少量調理用）は１ドット、ＡＡ０３（平底浅鍋）は２ドットでＡＡ０２はＡＡ０３の上位の階層ですがＦタームとして上位の４Ｂ０５９ＡＡ０２を入力した場合よりも下位の４Ｂ０５９ＡＡ０３を入力した場合の方が多くの文献がヒットします。上位のＡＡ０２で検索しても下位のＡＡ０３は検索対象から漏れています。またＦＩについてもＡ４７Ｊ３７／１０（フライパン，蓋またはたれつけ具を含む）は１ドット、Ａ４７Ｊ３７／１０，３０１（特に卵の調理に適するフライパン）は２ドットでＡ４７Ｊ３７／１０はＡ４７Ｊ３７／１０，３０１の上位の階層ですがＦＩとして上位のＡ４７Ｊ３７／１０を入力して検索しても下位のＡ４７Ｊ３７／１０，３０１は検索対象から漏れています。なお日付の範囲指定のように「：」を使って「４Ｂ０５９ＡＡ０２：４Ｂ０５９ＡＡ０３」を入力することでＡＡ０２＋ＡＡ０３の範囲を、また「Ａ４７Ｊ３７／１０：Ａ４７Ｊ３７／１０，３０１」を入力することでＡ４７Ｊ３７／１０＋Ａ４７Ｊ３７／１０，３０１の範囲を検索対象とすることは可能ですが、このような階層を意識した入力をしないと下位の階層の文献が検索から洩れてしまうことになります。

検索メニューの選択

このようなことを考えますと「２．特許・実用新案テキスト検索」でＦＩやＦタームを入力して検索を行うのは、スクリーニング数を絞るためにどうしてもＦＩやＦタームとテキストを組み合わせた検索をしたいとか、平成５年よりも前の文献はあまり考慮しなくてよいというような事情がある場合に限定し、できるだけ「３．特許・実用新案分類検索」の方を使用するのがよいと思います。「３．特許・実用新案分類検索」ではＦＩ，Ｆタームの階層も認識しますし、テキストデータが存在しない昭和以前の文献もヒットします。上記の４Ｂ０５９、ＡＡ０２、ＡＡ０３やＡ４７Ｊ３７／１０、Ａ４７Ｊ３７／１０，３０１の例では明治時代の文献もヒットします。

ＦＩやＦタームはアルファベットと数字の羅列で直感的に意味を把握しにくいためテキスト検索と比べると若干ハードルが高い面もありますが、検索時間の一部をＦタームリストやＦＩハンドブックの参照にあて、適当なＦＩやＦタームが存在する場合には「３．特許・実用新案分類検索」の方で分類検索を行うことで先行技術文献調査の精度向上が期待できます。

ワン・ポータル・ドシエ

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外国の審査情報等へのアクセスが容易に

J-PlatPat（特許情報プラットフォーム）にワン・ポータル・ドシエの機能が追加され、パテントファミリーやその審査状況等の情報が得られるようになりました。これまでもEspacenet（ヨーロッパ特許庁のサイト）やUSPTOのサイトを利用してパテントファミリーの審査状況等を調べることはできましたが、例えば出願番号や公開番号の入力形式（「ー」や「／」の有無等）がまちまちだったり、審査情報をどのようにして見ることができるのかわかりにくかったりして使いにくい面があり、慣れていない人にとっては若干ハードルが高かったかもしれません。J-PlatPatにワン・ポータル・ドシエの機能が追加されたことでパテントファミリーの情報にアクセスしやすくなりそうです。

特許調査への利用

ところでパテントファミリーの情報を調べる目的としては、自身が担当する案件の外国における審査状況の把握や、競合他社の動向調査等が考えられますが、先行技術文献調査にも有用です。

外国の審査で引用された文献を調べる

例えば、先行技術文献調査で調査対象の発明に近い内容が記載された文献が見つかった場合に、その文献のパテントファミリーの審査で引用された文献の中からさらに近い内容が記載された文献が見つかる可能性があります。

外国文献検索における分類選択に利用する

外国文献のサーチではＣＰＣ等の分類を適切に選択する必要がありますが、調査対象の発明に近い内容が記載された文献のパテントファミリーに付与された分類を参考にすることで、外国文献検索における分類選択の精度向上が期待できます。

なお先行技術文献調査でスクリーニングする文献にはパテントファミリーが存在しないものも多く含まれていますので、まずは特表、再表、国際公開のようなＰＣＴルートの文献やパリルートの優先権主張を伴う文献から調べてみるとよいと思います。

図形商標のイメージ検索

コラム、調査、

図形商標を検索する場合、J-PlatPatでは検索しようとする図形をウィーン図形分類を入力することにより限定しますが、下記のToreruやGlobal Brand Databaseでは検索しようとする図形のイメージファイルを入力することにより図形商標の検索が可能です。なおグローバルブランドデータベースはＷＩＰＯのサイトですが我が国の商標公報も検索できます。

Toreruによるイメージ検索

Toreru

使い方

「画像商標検索」のタブを選択し、「ファイルを選択の欄」をクリックしますとPC内などのファイルを選択できるようになりますので検索したいイメージファイルを選択します。そして右側の「検索」のボタンをクリックしますと検索が開始され、検索結果が下に表示されます。なお、入力できる画像ファイルの形式はjpeg、png、gif、bmpに限定されます。

ところで検索したい図形が描かれているファイルがPDF形式である場合もあるかと思います。このような場合にjpeg等の画像ファイルに変換する方法を簡単に説明します。まず検索したい図形が描かれているPDFファイルをAdobe Acrobat Reader DCで開きます。そして「編集」のタブの「スナップショット」を選択し検索したい図形が描かれた領域をマウスで囲みます。これで検索したい図形がコピーされます。次にWINDOWSアクセサリの中のペイントを立ち上げ、左上の「貼り付け」ボタンを押しますと図形がペーストされます。そして「ファイル」のタブの「名前を付けて保存」にカーソルを合わせますと右側にjpeg等の画像ファイルの形式が表示されますので変換したい形式を選択してファイル名を入力します。これでjpeg等の画像ファイルが作成されます。

Global Brand Databaseによるイメージ検索

Global Brand Database

使い方

「Drag & drop image your image here, or」の欄にイメージファイルを入力します（イメージデータのアイコンをドラッグします）。さらに入力したイメージデータの右側の「Search strategy」の欄から例えば「Conceptual similarity」を選択し、下の「Designation country」の欄に「jp」、「Nice classification」の欄に「XX」（区分）を入力します。そして画面右上の「Search」のボタンをクリックしますと検索が開始され、検索結果が表示されます。

TMviewによるイメージ検索

TMview

使い方

「画像をドラッグ＆ドロップするか、～」の欄にイメージファイルを入力します（イメージデータのアイコンをドラッグします）。さらに下のプルダウンメニューの「テリトリー」、「機関」、「商品およびサービス」を適宜選択します。そして画面右上の「検索」のボタンをクリックしますと検索が開始され、検索結果が表示されます。

ウィーン分類の選択に利用

図形によっては該当するウィーン図形分類を特定しにくいものもありますが、このような場合でも上記のイメージ検索を用いれば図形のイメージから直接図形商標を検索できますので便利です。ただし画像処理の精度や信頼性を考えますとイメージ検索にすべて頼るのではなく、ウィーン図形分類検索とイメージ検索を併用するのがよいと考えます。両者を併用することでサーチ漏れの低減が期待できます。また例えば検索しようとする図形に近い商標をイメージ検索によって見つけておいて、その商標に付与されているウィーン図形分類を参考にしてウィーン図形分類を選択することで分類選択の精度の向上も期待できます。

特実の先行技術文献調査でＦタームやＦＩ等の分類を選択する際、パテントマップガイダンス等から分類を選択するだけでなく、テキスト検索等で見つかった文献に付与されている分類を参考にすることが有用なことが多いですが、図形商標の調査でもウィーン図形分類検索とイメージ検索の併用が有用と考えます。

特許調査について

調査、、、、、

どこで調査を終えるか

例えば出願前に先行技術文献調査を行う場合に、どの程度の調査を行えばよいか多くの方が迷うのではないでしょうか。出願しようとする発明のポイントと同じ内容や近い内容が記載された文献が見つかって特許性が低いと判断できるような場合には、限定を追加して出願したり、あるいはその出願は取りやめ、予算や時間を他の案件に割り当てるというような対応をとることができると思います。このようなケースですと一応調査の目的は達することができたと考えられますので調査を終えることができると思います。一方、特許性を否定する文献 が見つからない場合には、どこで調査を終えるべきか悩むことになるのではないでしょうか。

１００％の調査は困難

なお先行技術文献調査は特許や実用新案の文献を調査対象とすることが多いですが、法律的には新規性や進歩性の判断の根拠となる先行技術は特許や実用新案の文献に限定されるものではな く、他の刊行物やインターネットで得られる情報、さらには不特定人（守秘義務を負わない者）の知識等も新規性や進歩性の判断の根拠となりえます。しかしながら、このようなものをすべて調査することは現実的には困難であり、また特許や実用新案の文献に絞ったとしてもその文献数は膨大で、いくら時間をかけて先行技術調査を行ったとしても１００％特許性ありと断言することは困難です。

調査を終える目安

では何を目安とすればよいでしょうか。特許出願は特許庁の審査に通ることが目標になりますので特許庁の審査と同等の先行技術文献調査を行うということがまず考えられると思います。しかしながら、特許庁の審査では１０００以上の文献をスクリーニングすることは普通ですし２０００以上の文献をスクリーニングすることも珍しくありません。先行技術文献調査にかけられる時間や、あるいは特許事務所、特許調査会社等に調査を委託する予算が十分であれば特許庁の審査と同等の先行技術文献調査も可能と思いますが、現実的には特許庁と同等の先行技術文献調査を行うことは時間や予算の面で難しいことが多いのではないでしょうか。

また、どうせ１００％の調査はできないのだから調査など行わずに出願してしまうという考え方もあるかもしれません。しかしながら、このような考え方もおすすめできません。登録調査機関で先行技術文献のサーチをしておりますと、サーチを開始して早い段階でサーチ対象の発明と関連性が特に高いと思われる分類からＸ文献（新規性を否定する文献）や有力なＹ文献（進歩性を否定する文献）が見つかることがしばしばあります。このような案件に遭遇しますと、そのような関連性が特に高いと思われる分類についての調査くらいは出願前に行っておくべきであったのではないかと考えてしまいます。なお、このようなケースは必ずしも個人や中小企業の出願に多いというわけではなく、むしろ大手企業の出願に多いように思われます。もっとも大手企業の出願数が多いので結果的にそうなっているだけかもしれません。

そうしますと特許庁の審査と同等の先行技術文献調査とまではいかないものの、特許庁の審査と同等の先行技術文献調査を行うと想定した場合に、サーチを開始して早い段階で検索することとなるであろう、サーチ対象の発明との関連性が特に高いと思われる分類を調査範囲とするという選択が考えられると思います。弊所ではこのような観点で基本調査を設定しております。また、より詳細な調査にも対応すべく追加調査を設定しております。また低額のニーズにも対応すべく簡易調査も設定しております。簡易調査は基本調査と比べますと精度が低くはなりますが、上記のように出願を検討している発明のポイントと同じ内容や近い内容が記載された文献が見つかるような場合には調査の目的を達することができたと言えると思います。また弊所の基本調査と同様の調査をお客様の方で行いたいという場合には、分類や検索式等に関するご相談という形でサポートすることも可能です。

調査に関する料金

調査に関する期間限定料金

東京都助成金

公的支援制度、、、、、、、、、、、、、

東京都内の中小企業（会社及び個人事業者）等であれば外国出願（特許、実用新案、意匠、商標）、特許調査等の費用について１／２の助成を受けられる場合があります。詳細は以下をご覧ください。

東京都知的財産総合センター助成事業

提供サービス

事務所案内、、、、

 

 特許　出願　審査請求　中間処理　特許料納付　自動納付手続
　拒絶査定不服審判　　特許異議申立て　情報提供
　無効審判　訂正審判　訂正請求
 実用新案　出願　登録料納付　自動納付手続
　実用新案技術評価書の請求　訂正
　無効審判
 意匠　出願　中間処理　登録料納付　自動納付手続
　拒絶査定不服審判　補正却下不服審判
　無効審判
 商標　出願　中間処理　登録料納付　更新登録
　拒絶査定不服審判　　補正却下不服審判
　登録異議申立て　情報提供
調査　先行特実文献調査　先行意匠調査　先行商標調査
   外国先行特許文献（英語文献）調査
相談　知的財産制度　出願等の手続き　料金
　出願書類、中間処理書類等の作成　先行特実文献等の調査

調査の料金

料金表、調査、、、

先行技術調査料金

弊所国内先行技術文献調査料金（基本）

基本調査内容基本調査料金
独立請求項（案）１項５０，０００円

（税込５５，０００円）

従属請求項（案）２項まで
スクリーニング数（装置系）５００文献
スクリーニング数（制御、回路系）２５０文献

基本調査の期間限定料金：35,000円（税込38,500円）

基本調査はＦターム、ＦＩ等による分類検索、テキスト検索を事案に応じて適宜選択しサーチを行います。

追加調査内容 追加調査料金
追加独立請求項（案）９，０００円／項

（税込９，９００円）

追加従属請求項（案）６，０００円／項

（税込６，６００円）

追加スクリーニング数（装置系）３０，０００円／５００文献

（税込３３，０００円）

追加スクリーニング数（制御、回路系）３０，０００円／２５０文献

（税込３３，０００円）

追加調査は上記基本調査の調査内容を拡大してサーチを行うものです。

なお装置系は装置、器具、機械、設備、構造物等、制御系は制御、プログラム、ビジネスモデル等、回路系は電気回路、流体回路等です。

弊所先行特実文献調査のご依頼をいただいた案件について特許出願または実用新案登録出願のご依頼をいただいた場合、弊所先行特実文献調査料金の半額を弊所出願料金から値引きいたします。

意匠調査料金

弊所国内先行意匠調査料金（税別）

基本調査内容基本調査料金
スクリーニング数１０００文献２０，０００円

（税込２２，０００円）

基本調査はＤタームによる分類検索、テキスト検索を事案に応じて適宜選択してサーチを行います。

追加調査内容 追加調査料金
追加スクリーニング数５，０００円／５００文献

（税込５，５００円）

追加調査は上記基本調査の調査内容を拡大してサーチを行うものです。

弊所先行意匠調査のご依頼をいただいた案件について意匠登録出願のご依頼をいただいた場合、弊所先行意匠調査料金の半額を弊所出願料金から値引きいたします。

商標調査料金

弊所国内先行商標調査料金

基本調査内容基本調査料金
１区分文字商標２０，０００円

（税込２２，０００円）

図形商標３０，０００円

（税込３３，０００円）

追加調査内容追加調査料金
１区分文字商標１０，０００円

（税込１１，０００円）

図形商標１０，０００円

（税込１１，０００円）

追加調査は上記基本調査の調査対象を拡大してサーチを行うものです。

弊所先行商標調査のご依頼をいただいた案件について商標登録出願のご依頼をいただいた場合、弊所先行商標調査料金の半額を弊所出願料金から値引きいたします。

外国特許文献調査料金

弊所外国（英語）先行技術文献調査料金

基本調査内容基本調査料金
独立請求項（案）１項８０，０００円

（税込８８，０００円）

従属請求項（案）２項まで
スクリーニング数（装置系）５００文献
スクリーニング数（制御、回路系）２５０文献

基本調査はＣＰＣ等による分類検索、テキスト検索を事案に応じて適宜選択しサーチを行います。

追加調査対内容 追加調査料金
追加独立請求項（案）９，０００円／項

（税込９，９００円）

追加従属請求項（案）６，０００円／項

（税込６，６００円）

追加スクリーニング数（装置系）５０，０００円／５００文献

（税込５５，０００円）

追加スクリーニング数（制御、回路系）５０，０００円／２５０文献

（税込５５，０００円）

追加調査は上記基本調査の調査対象を拡大してサーチを行うものです。